预估 2017 第三季营收净额 (net sales) 约为 22 亿欧元，毛利率 (gross margin) 约为 43%。因为市场需求和第二季的强劲财务表现， ASML 预估 2017 全年营收成长可达 25%。

ASML 总裁暨执行长温彼得 (Peter Wennink) 指出 : 「 ASML 今年的主要营收贡献来自内存芯片客户，尤其在 DRAM 市场需求的驱动下，这部分的营收预估将比去年成长 50%，而来自逻辑芯片方面的营收也可望成长 15%。除了 DUV 光刻系统的业务持续成长，在 EUV 光刻系统部分，未出货订单累积金额在第二季已经累积到 28 亿欧元，显示不论逻辑芯片和 DRAM 客户都积极准备将 EUV 导入芯片量产阶段。」

此外， ASML 近年来积极推行系统升级业务，该部分的营收贡献可望在今年成长 20%。「综合市场和各业务领域的捷报，我们认为成长动能将延续到 2018 年，」温彼得说。

二季度的营收主力，EUV表现亮眼

作为为数不多的芯片光刻设备供应商，唯一一家EUV设备提供商，ASML在刚过去的一个季度表现非常亮眼，主要体现在以下几个方面：

（1）深紫外光 (DUV)光刻

ASML推出最新浸润式光刻系统 TWINSCAN NXT:2000i，具备多项硬件技术创新，让客户得以在 7 奈米和 5 奈米制程节点上，同时用浸润式光刻和 EUV 系统进行量产，并达到 2.5 奈米的迭对精度(on-product overlay)。另一方面， 3D NAND 客户对于KrF 干式光刻系统的需求持续升高，目前 TWINSCAN XT:860 的未出货订单已累积超过20 台。 TWINSCAN XT:860 系统的生产力可达到每天曝光 5,300 片晶圆。

（2）全方位光刻优化方案 (Holistic Lithography)

本季开始出货最新的 YieldStar 375F 量测系统，具备最新的光学技术，可更快、更精准的获取量测结果。

（3）极紫外光(EUV)光刻

在荷兰总部已经成功将升级的 EUV 光源整合进 NXE:3400B 系统中，并达成每小时输出 125 片晶圆的生产力指标。至此， ASML 的 EUV 系统已经成功达成所有计划中的关键效能指标，下一阶段， ASML 将专注于达成满足客户在量产时所需的相关妥善率(availability)指标，并持续提升系统生产力。

在第二季当中， ASML 也完成了对德国卡尔蔡司(ZEISS)旗下蔡司半导体(Carl Zeiss SMT) 24.9%的股权收购，以进一步深化双方的策略伙伴关系，共同发展下一代 EUV 光刻系统。

展望 2017 年第三季， ASML 预估整体销售净额可达 22 亿欧元，毛利率约落在 43%，其中包含约 3 亿欧元的 EUV 营收认列。研发投资金额提高到 3.15 亿欧元，其他收入部份 (包括来自于客户共同投资计划的收入)约为 2,400 万欧元，而管销费用 (SG&A) 支出则约 1.05 亿欧元，年化税率约 14%。 ASML 预计在第三季会有另外 3 台 NXE:3400B EUV 光刻系统完成出货。

ASML：现代芯片不可或缺的支持者

阿斯麦公司ASML Holding NV(NASDAQ:ASML、Euronext:ASML)创立于1984年，是从飞利浦独立出来的一个半导体设备制造商。前称ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改为现用名，总部位于荷兰费尔德霍芬（Veldhoven），全职雇员12,168人，是一家半导体设备设计、制造及销售公司。

阿斯麦公司为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。

目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，例如英特尔，三星，海力士，台积电，联电），格芯及其它半导体厂。随着摩尔定律的发展，芯片走向了7nm以下，这就需要更高级的EUV光刻系统，全球只有ASML的NXE:3400B能够满足需求。

ASML的光刻机怎样帮芯片助力？我们可以看一下ASML官方的介绍：

简单来说，我们制造的光刻设备是一种投影系统。这个设备由50000个零件组装而成。

实际使用过程中，则通过激光束被投穿过一片印着图案的蓝图或光掩模，光学镜片将图案聚焦在有着光感化学涂层的硅晶圆上，当未受曝光的部分被蚀刻掉时，图案随即显现…

此制程被一再重复，用以在单个芯片上制造数以十亿计的微型结构。晶圆以2纳米的精准度互相叠加，并加速移动，快如闪电，达到这种精确度可谓高科技，要知道，即使头发丝也有十万纳米，2纳米的精细可想而知。

未来，只有他的EUV光刻机能够帮助芯片接续微缩，因此这些设备纵使卖到上亿欧元，都能被客户所接受。